國立臺灣美術館2014年數位藝術人才國外駐棧創作 公開徵選 | 6.10止

國立臺灣美術館今年將與荷蘭V2_動態媒體藝術中心、比利時iMAL數位文化與科技中心、西班牙LABoral藝術與創意產業中心合作，將選送優秀數位藝術創作人才赴國外進行8至10週駐棧創作，機會難得，敬請把握！

即日起至2014年6月10日開放申請，本徵選採線上報名，報名及簡章詳情請至台灣數位藝術知識與創作流通平台 http://www.digiarts.org.tw/

補助名額：1-3名（必要時得予從缺）。

駐棧地點及時間：

1. 荷蘭V2_動態媒體藝術中心（V2_Institute for the Unstable Media）7月中起為期8-10週
2. 比利時iMAL數位文化與科技中心（iMAL, interactive Media Art Laboratory, Center for Digital Cultures and Technology）8月中起為期8-10週
3. 西班牙LABoral藝術與創意產業中心（LABoral Centro de Arte y Creación Industrial）8月中起為期8-10週

申請對象及條件：

1. 具備中華民國國籍，無兵役或其他法律限制出國者。
2. 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術)，至申請截止日前持續創作兩年以上，且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
3. 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者（如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列）。
4. 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力，且創作計畫獲該機構審核同意者。
5. 申請前往V2_者，另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範，申請者須為至申請截止日止年齡未滿35歲，或自學校畢業五年以內者。
6. 符合前述（一）至（三）項條件，且已獲國外相關機構同意，將於當年度前往該機構駐站創作者，得向本館申請補助全部或部分經費。

申請方式及結果公告時間：

1. 申請時間：自2014年5月10日至6月10日24時止，一律採線上報名。請至｢台灣數位藝術知識與創作流通平台｣網站（http://www.digiarts.org.tw/）進行線上報名程序。資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
2. 結果公告：預定2014年7月公告評選結果。

＊上述時間如有更動，將公告於國立臺灣美術館網站。